授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，膜霍将成为激励我们不断前行的尔元动力。2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。商纪念对于获得认证的业化仪式技术成就 ，实现了兼具高灵敏度与量产能力的认证薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。
～自1983年实现商业化以来40余年
，同时
，并通过传感技术持续创造新的价值。
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌。因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备 、法定代表人总经理 ：栗田直幸 、以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，HW-300B、拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员 。HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、
IEEE Logo
※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A
、由于能够以非接触方式检测电机的旋转 、AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起
：福田先生 、HW-300B 、为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京、员工及各位相关人士，由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。存储设备、我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。计算机与信息技术等领域的技术创新。
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。致力于推动科学技术发展并回馈社会 。同时 ，出版学术论文 、
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会
，实现商业化以来 ，致力于推动电气电子工程
、AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、通过制定国际标准 、举办技术会议等方式
，致以衷心的感谢 。
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，来自行政机构 、以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式，